从半导体制造工艺排出气流中去除毒气组分的设备和方法

Method and apparatus for the abatement of toxic gas components from a semiconductor manufacturing process effluent stream

Abstract

一种从半导体制造过程产生的排出气流中去除至少一种酸或氢化物气体组分或其副产物的设备和方法,该设备包含对酸或氢化物气体组分具有高容量吸附亲和力的第一吸附剂床材料,对所述气体组分具有高捕获速率吸附亲和力的第二吸附剂床材料,和将过程与各吸附剂床材料进行气流连通的流径,使排出气流经各吸附剂床以降低酸或氢化物气体组分的浓度。第一吸附剂床材料优选地是碱性铜碳酸盐,第二吸附剂床优选地是CuO、AgO、CoO、Co

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